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國(guó)內(nèi)主要晶圓代工廠(中芯國(guó)際+華虹半導(dǎo)體)的清洗公開招標(biāo)情況

  • 發(fā)布時(shí)間: 2024-01-04

我們統(tǒng)計(jì)了國(guó)內(nèi)主要晶圓代工廠(中芯國(guó)際+華虹半導(dǎo)體)的清洗公開招標(biāo)情況,2018 年以 來(lái)國(guó)產(chǎn)清洗設(shè)備占比快速提升。2021 年兩晶圓廠公開招標(biāo)清洗設(shè)備共 44 臺(tái),其中 22 臺(tái)為 國(guó)產(chǎn)設(shè)備,國(guó)產(chǎn)化進(jìn)展順利。

較高的國(guó)產(chǎn)化率得益于國(guó)內(nèi)有眾多廠商在濕法領(lǐng)域進(jìn)行了布局。至純科技、北方華創(chuàng)、盛美 半導(dǎo)體、芯源微都擁有各自的濕法產(chǎn)品線。至純能提供到 28 納米節(jié)點(diǎn)全部濕法工藝,主要 單片清洗產(chǎn)品 S3XX 系列可搭載 12 個(gè)腔體,產(chǎn)能最高可達(dá) 590WPH,18 腔產(chǎn)品亦在研發(fā) 中。盛美半導(dǎo)體主要產(chǎn)品為單片 SAPS 兆聲波清洗設(shè)備、單片 TEBO 兆聲波清洗設(shè)備、單片 背面清洗設(shè)備等。北方華創(chuàng)收購(gòu)美國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)商 Akrion Systems LLC 之后主要產(chǎn)品 為單片及槽式清洗設(shè)備。芯源微則在單片濕法設(shè)備有較廣泛的覆蓋,清洗、去膠、刻蝕均有 布局。
根據(jù) VLSI 提供的行業(yè)數(shù)據(jù),中國(guó)大區(qū)(含中國(guó)臺(tái)灣地區(qū))前道單片式清洗設(shè)備銷售額已經(jīng) 由 2016 年的 6.14 億美元增長(zhǎng)至 2018 年的 7.54 億美元,年均復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá) 10.86%,預(yù)計(jì) 2023 年將將達(dá)到 8.26 億美元。

中芯國(guó)際、等多個(gè)客戶處通過(guò)工藝驗(yàn)證,并已獲得 國(guó)內(nèi)多家 Fab 廠商的批量重復(fù)訂單。公司生產(chǎn)的后道涂膠顯影設(shè)備與單片式濕法設(shè)備,已經(jīng) 從先進(jìn)封裝領(lǐng)域、LED 領(lǐng)域拓展到 MEMS、化合物、功率器件、特種工藝等領(lǐng)域,作為主流 機(jī)型應(yīng)用于臺(tái)積電、長(zhǎng)電科技、華天科技、通富微電、晶方科技、華燦光電、乾照光電、澳洋順昌、中芯紹興、中芯寧波等國(guó)內(nèi)一線大廠。近年來(lái),通過(guò)借鑒前道產(chǎn)品的先進(jìn)設(shè)計(jì) 部分選用日本成熟的技術(shù)部件,理念和技術(shù),對(duì)后道設(shè)備、小尺寸設(shè)備的架構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化,提升了工藝水平和產(chǎn)品產(chǎn)能。應(yīng)用 了前道先進(jìn)設(shè)計(jì)理念及技術(shù)的后道產(chǎn)品產(chǎn)線應(yīng)用,目前已經(jīng)成 為客戶端的主力量產(chǎn)設(shè)備。
以下為半導(dǎo)體濕法制程工藝部件 的日系高質(zhì)量產(chǎn)品,深圳瑞思昌科技,主要代理日系濕法刻蝕關(guān)鍵性零部件,助力國(guó)內(nèi)濕法刻蝕更快更好的發(fā)展
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流量計(jì)1

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